温州大学张礼杰教授应邀为材料学院师生作学术报告 |
发布时间: 2025-04-18 已浏览: 10 次 |
2025年4月17日,温州大学张礼杰教授应邀访问常州大学材料学院,在材料学院一楼报告厅做了题“二维材料的低温、界面控制生长与器件性能”的学术报告。材料学院副院长王亚飞教授主持报告会,材料学院师生参加了会议。 张礼杰教授围绕二维材料在半导体工业中的应用前景展开报告。他指出,随着硅基芯片制程逼近物理极限,二维材料凭借原子级厚度及优异光电特性,成为延续摩尔定律的关键方向。针对传统制备工艺高温不兼容硅基芯片的问题,团队创新提出范德瓦尔斯衬底辅助低温生长策略,成功在400℃以下制备17种高质量二维半导体材料,并实现与硅基集成电路的工艺兼容。此外,讲座还展示了晶界可控的六角星形MoS2忆阻器、低肖特基势垒的二维金属-半导体界面等突破性成果,为高性能电子器件开发提供了新思路。 报告结束后,张礼杰教授与材料学院师生亲切互动,解答现场师生的疑问。本次学术报告为二维材料的低温可控生长及高性能器件开发提供了新思路,有望推动未来电子和光电器件的发展。 一审/徐创 二审/熊慧琴 三审/王亚飞 |
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