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X射线光电子能谱仪


品牌/ 型号ULVAC-PHI / PHI 5000 VersaProbe III
编号/取得日期00230714 / 2020.10.16
仪器简介

The PHI 5000 Versaprobe II (VP-II) 能提供高性能的微区光谱,化学成像,二次电子成像,具有离子与电子双中和系统,以及可以在极低电压也可工作的高效能离子枪,UPS适用于表面状态分析,能获得能带结构。

应用范围:

包括表面的元素与化学态分析(氢和氦除外)。

表面物种的化学状态的识别,包括有机和无机材料,导体和绝缘体。

深入薄膜中的组成元素分布概况,包括半导体、薄膜结构,磁介质薄膜,光学镀膜,装饰涂料,和耐磨涂层。

在必须避免会对电子束技术有破坏性效果时的样品成分分析。

技术参数

PHI 5000 Versaprobe II X射线光电子能谱仪最小的X射线束光栅扫描直径约为10微米,X射线束的大小可以轻易的使用电脑控制在直径10微米到400微米设定。