The PHI 5000 Versaprobe II (VP-II) 能提供高性能的微区光谱，化学成像，二次电子成像，具有离子与电子双中和系统，以及可以在极低电压也可工作的高效能离子枪，UPS适用于表面状态分析，能获得能带结构。

应用范围：

包括表面的元素与化学态分析（氢和氦除外）。

表面物种的化学状态的识别，包括有机和无机材料，导体和绝缘体。

深入薄膜中的组成元素分布概况，包括半导体、薄膜结构，磁介质薄膜，光学镀膜，装饰涂料，和耐磨涂层。

在必须避免会对电子束技术有破坏性效果时的样品成分分析。

PHI 5000 Versaprobe II X射线光电子能谱仪最小的X射线束光栅扫描直径约为10微米，X射线束的大小可以轻易的使用电脑控制在直径10微米到400微米设定。